メインナビゲーションにスキップ 検索にスキップ メインコンテンツにスキップ

Ti-site substitution using the higher-valent cation for enhancing the ferroelectric properties of Nd3+-substituted bismuth titanate thin films

  • Hiroshi Uchida
  • , Seiichiro Koda
  • , Hirofumi Matsuda
  • , Takashi Iijima
  • , Takayuki Watanabe
  • , Hiroshi Funakubo

研究成果: ジャーナルへの寄稿会議記事査読

抄録

Ti-site substitution using the higher-valent cation was performed on ferroelectric thin films of neodymium-substituted bismuth titanate, (Bi,Nd) 4Ti3O12 (BNT), in order to improve its ferroelectric properties by compensating the space charge in BIT-based crystal. Ti-site-substituted BNT films, (Bi3.50Nd0.50) 1-(x/12)(Ti3.00-xVx)O15 (x = 0 ∼ 0.09), were fabricated on (111)Pt/Ti/SiO2/(100)Si substrates using a chemical solution deposition (CSD) technique. V5+-substitution enhanced the remanent polarization of BNT film without change in the coercive field. V5+-substitution also exhibited the possibilities for improving the endurance against leakage current and fatigue degradation.

本文言語英語
ページ(範囲)207-212
ページ数6
ジャーナルMaterials Research Society Symposium - Proceedings
784
DOI
出版ステータス出版済み - 2003
外部発表はい
イベントFerroelectric Thin Films XII - Boston, MA, 米国
継続期間: 12月 1 200312月 4 2003

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 材料科学一般
  • 凝縮系物理学
  • 材料力学
  • 機械工学

フィンガープリント

「Ti-site substitution using the higher-valent cation for enhancing the ferroelectric properties of Nd3+-substituted bismuth titanate thin films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル