Sub-nm EOT ferroelectric HfO2 on p+Ge with highly reliable field cycling properties

X. Tian, L. Xu, S. Shibayama, T. Nishimura, T. Yajima, S. Migita, A. Toriumi

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

6 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Sub-nm EOT ferroelectric HfO2 on p+Ge with highly reliable field cycling properties」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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