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Strained single-crystal GOI (Ge on Insulator) arrays by rapid-melting growth from Si (1 1 1) micro-seeds

  • T. Sakane
  • , K. Toko
  • , T. Tanaka
  • , T. Sadoh
  • , M. Miyao

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

抄録

Liquid-phase epitaxial growth of Ge islands on insulator (GOI) using Ni-imprint-induced Si (1 1 1) micro-crystal seeds (∼1 μmφ) is proposed. As a result, single-crystalline GOI (1 1 1) structures with large area (∼10 μmφ) are realized. The transmission electron microscopy observations reveal no dislocation or stacking fault in the laterally grown regions. Moreover, the Raman measurements show that the tensile strain (∼0.2%) which enhances the carrier mobility is induced in the growth regions. This new method can be employed to realize the multi-functional SiGe large scale integrated circuits.

本文言語英語
ページ(範囲)22-25
ページ数4
ジャーナルSolid-State Electronics
60
1
DOI
出版ステータス出版済み - 6月 2011

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学
  • 材料化学

フィンガープリント

「Strained single-crystal GOI (Ge on Insulator) arrays by rapid-melting growth from Si (1 1 1) micro-seeds」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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