Pulsed laser ablation of silver: Ion dynamics in the plasma plume

M. Esposito, T. Lippert, C. W. Schneider, A. Wokaun, T. Donnelly, J. G. Lunney, H. Tellez, J. M. Vadillo, J. J. Laserna

    研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

    6 被引用数 (Scopus)

    抄録

    The ion dynamics of silver ablated using 355 and 193nm pulsed laser irradiation in vacuum has been investigated by usinga Langmuir probe and quadrupole mass spectrometry. The kinetic energies of the ablated silver ions were measured to be between 5 and 40 eV depending on the laser fluence. In addition, the angular distributions of ablated species showed that ionic species are preferentially ejected along the surface normal and the corresponding plasma temperature T ≈ 0.7 eV agrees well for both techniques.

    本文言語英語
    ページ(範囲)677-680
    ページ数4
    ジャーナルJournal of Optoelectronics and Advanced Materials
    12
    3
    出版ステータス出版済み - 3月 2010

    !!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

    • 電子材料、光学材料、および磁性材料
    • 原子分子物理学および光学
    • 凝縮系物理学
    • 電子工学および電気工学

    フィンガープリント

    「Pulsed laser ablation of silver: Ion dynamics in the plasma plume」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル