Low temperature synthesis of β-FeSi2 thin films by pulsed laser deposition

T. Yoshitake, T. Nagamoto, K. Nagayama

    研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

    2 被引用数 (Scopus)

    抄録

    In this study, the β-FeSi2 phase was successfully grown using a PLD method. Phase growth was realized by the adatom energy due to the high energetic species such as excited Fe atoms and excited Si ones.

    本文言語英語
    ページ(範囲)1755-1756
    ページ数2
    ジャーナルJournal of Materials Science Letters
    18
    21
    DOI
    出版ステータス出版済み - 11月 1 1999

    !!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

    • 材料科学一般

    フィンガープリント

    「Low temperature synthesis of β-FeSi2 thin films by pulsed laser deposition」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    引用スタイル