Low temperature (210 °C) fabrication of Ge MOS capacitor and controllability of its flatband voltage

Hajime Kuwazuru, Taisei Aso, Dong Wang, Keisuke Yamamoto

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

1 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Low temperature (210 °C) fabrication of Ge MOS capacitor and controllability of its flatband voltage」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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