K-doped Ba122 epitaxial thin film on MgO substrate by buffer engineering

Dongyi Qin, Kazumasa Iida, Zimeng Guo, Chao Wang, Hikaru Saito, Satoshi Hata, Michio Naito, Akiyasu Yamamoto

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

9 被引用数 (Scopus)

抄録

Molecular beam epitaxy of K-doped Ba122 (Ba1−x K x Fe2As2) superconductor was realized on an MgO substrate. Microstructural observation revealed that the undoped Ba122 served as a perfect buffer layer for epitaxial growth of the K-doped Ba122. The film exhibited a high critical temperature of 39.8 K and a high critical current density of 3.9 MA cm−2 at 4 K. The successful growth of epitaxial thin film will enable artificial single grain boundary on oxide bicrystal substrates and reveal the grain boundary transport nature of K-doped Ba122.

本文言語英語
論文番号09LT01
ジャーナルSuperconductor Science and Technology
35
9
DOI
出版ステータス出版済み - 9月 2022

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • セラミックおよび複合材料
  • 凝縮系物理学
  • 金属および合金
  • 材料化学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「K-doped Ba122 epitaxial thin film on MgO substrate by buffer engineering」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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