H+ implantation-enhanced stress relaxation in c-Si 1-xGex on SiO2 during oxidation-induced Ge condensation process

T. Sadoh, R. Matsuura, M. Ninomiya, M. Nakamae, T. Enokida, H. Hagino, M. Miyao

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

2 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「H+ implantation-enhanced stress relaxation in c-Si 1-xGex on SiO2 during oxidation-induced Ge condensation process」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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