Growth and doping modeling of SiC-CVD in a horizontal hot-wall reactor

Shin Ichi Nishizawa, Michel Pons

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

53 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Growth and doping modeling of SiC-CVD in a horizontal hot-wall reactor」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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