Ferroelectricity of nondoped thin HfO2 films in TiN/HfO2/TiN stacks
Tomonori Nishimura, Lun Xu, Shigehisa Shibayama, Takeaki Yajima, Shinji Migita, Akira Toriumi
研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
74
被引用数
(Scopus)