メインナビゲーションにスキップ 検索にスキップ メインコンテンツにスキップ

Fabrication of single-crystal Si microstructures by anodization

  • Katsuya Higa
  • , Tanemasa Asano

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿 › 章

抄録

We have investigated the application of the anodization process to the fabrication of microstructures consisting of single-crystal Si. When anodization is carried out in the dark, porous Si is preferentially formed in a p-type region. The porous region can be used as a sacrificial region. The unanodized Si region forms the components of the microstructures. The shape of the porous region can be controlled by varying the profiles of the n- and p-type regions and their resistivity. It has been found that, by utilizing these characteristics, various microstructures can be formed from single-crystal Si. Fabrication of a cantilever and a piezoresistive gauge for a pressure sensor are demonstrated.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルJapanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers
編集者Y. Aoyagi, N. Atoda, T. Fukui, M. Komuro, M. Kotera, al et al
ページ6347-6695
ページ数349
版12 B
出版ステータス出版済み - 12月 1996
イベントProceedings of the 1996 9th International MicroProcess Conference, MPC'96 - Kyushu, Jpn
継続期間: 7月 8 1996 → 7月 11 1996

出版物シリーズ

名前Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers & Short Notes & Review Papers
番号12 B
巻35

その他

その他Proceedings of the 1996 9th International MicroProcess Conference, MPC'96
CityKyushu, Jpn
Period7/8/96 → 7/11/96

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 工学一般
  • 物理学および天文学一般

フィンガープリント

「Fabrication of single-crystal Si microstructures by anodization」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル