Effect of Si substrate on interfacial SiO2 scavenging in HfO2/SiO2/Si stacks

Xiuyan Li, Takeaki Yajima, Tomonori Nishimura, Kosuke Nagashio, Akira Toriumi

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

15 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Effect of Si substrate on interfacial SiO2 scavenging in HfO2/SiO2/Si stacks」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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