Development of Bragg reflection-type X-ray polarimeter based on a bent silicon crystal using hot plastic deformation

Y. Ueda, T. Uchino, D. Ishi, Y. Ezoe, K. Ishikawa, M. Numazawa, A. Fukushima, S. Sakuda, A. Inagaki, H. Morishita, L. Sekiguchi, T. Murakawa, Y. Tsuji, K. Mitsuda, K. Morishita, K. Nakajima

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

抄録

We are developing a novel Bragg reflection X-ray polarimeter using hot plastic deformation of silicon wafers. A Bragg reflection polarimeter has the advantage of simple principle and large modulation factor but suffers from the disadvantage of a narrow detectable energy band and difficulty to focus an incident beam. We overcome these disadvantages by bending a silicon wafer at high temperature. The bent Bragg reflection polarimeter have a wide energy band using different angles on the wafer and enable focusing. We have succeeded in measuring X-ray polarization with this method for the first time using a sample optic made from a 4-inch silicon (100) wafer.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルSpace Telescopes and Instrumentation 2022
ホスト出版物のサブタイトルUltraviolet to Gamma Ray
編集者Jan-Willem A. den Herder, Shouleh Nikzad, Kazuhiro Nakazawa
出版社SPIE
ISBN(電子版)9781510653436
DOI
出版ステータス出版済み - 2022
イベントSpace Telescopes and Instrumentation 2022: Ultraviolet to Gamma Ray - Montreal, 米国
継続期間: 7月 17 20227月 22 2022

出版物シリーズ

名前Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
12181
ISSN(印刷版)0277-786X
ISSN(電子版)1996-756X

会議

会議Space Telescopes and Instrumentation 2022: Ultraviolet to Gamma Ray
国/地域米国
CityMontreal
Period7/17/227/22/22

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • コンピュータ サイエンスの応用
  • 応用数学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Development of Bragg reflection-type X-ray polarimeter based on a bent silicon crystal using hot plastic deformation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル