Codeposition on diamond film surface during reactive ion etching in SF6 and O2 plasmas

K. Teii, M. Hori, T. Goto

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

6 被引用数 (Scopus)

抄録

Polycrystalline diamond films were exposed to electron cyclotron resonance (ECR) SF6 and O2 ion etching plasmas. The films were etched by varying an applied negative substrate bias, and the resulting surface was analyzed by scanning electron microscopy, Raman spectroscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy.

本文言語英語
ページ(範囲)2779-2784
ページ数6
ジャーナルJournal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
18
6
DOI
出版ステータス出版済み - 11月 2000
外部発表はい

!!!All Science Journal Classification (ASJC) codes

  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 表面、皮膜および薄膜

フィンガープリント

「Codeposition on diamond film surface during reactive ion etching in SF6 and O2 plasmas」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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