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Charge build-up and its reduction in plasma cleaning process
Kiyoshi Arita, Kazuhiro Noda,
Tanemasa Asano
日本エジプト科学技術連携センター
研究成果
:
会議への寄与タイプ
›
学会誌
›
査読
6
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Charge build-up and its reduction in plasma cleaning process」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Earth and Planetary Sciences
Plasma
100%
Substrate
62%
Cleaning
62%
Spatial Distribution
25%
Capacitor
25%
View
12%
Mask
12%
Gas
12%
Size
12%
Amount
12%
Distance
12%
Isolators
12%
Anode
12%
Circuit Board
12%
Metal Oxide
12%
Paste
12%
Metal-Nitride-Oxide-Silicon
12%
Engineering
Substrates
62%
Cleaning
62%
Spatial Distribution
25%
Anode
12%
Reduction
12%
Surface Film
12%
Conductive
12%
Exposure Time
12%
Gas Pressure
12%
Circuit Board
12%
Pressure Plasma
12%
Gas Specie
12%
Physics
Substrates
62%
Cleaning
62%
Independent Variables
25%
Spatial Distribution
25%
Capacitor
25%
Gases
12%
Distance
12%
Insulators
12%
View
12%
Pastes
12%
Chemistry
Cleaning
62%
Procedure
25%
Capacitor
25%
Particle Size
12%
Anode
12%
Structure
12%
Amount
12%
Liquid Film
12%
Gas
12%
Nonconductor
12%
Reduction
12%
Cathode
12%
Configuration
12%
Metal Oxide
12%
Material Science
Material
12%
Gas
12%
Liquid Films
12%