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Characterization of near-interface border-traps in GeO<sub>2</sub>/Ge gate stacks grown by low and high temperature thermal oxidation using deep-level transient spectroscopy

研究成果: 会議への寄与タイプ › 学会誌 › 査読

本文言語英語
ページ505-506
ページ数2
DOI
出版ステータス出版済み - 9月 20 2017
イベント2017 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2017) - Sendai International Center, Sendai, 日本
継続期間: 9月 19 2017 → 9月 22 2017

会議

会議2017 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2017)
国/地域日本
CitySendai
Period9/19/17 → 9/22/17

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