Autostoichiometric vapor deposition III. A study of stoichiometry and characterization of epitaxial LiTaO3 layer

K. W. Chour, R. C. Zhang, M. S. Goorsky, T. Takada, E. Akiba, T. Kumagai, K. Kawaguchi, M. L. Jensen, C. Eaves, R. Xu

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

5 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Autostoichiometric vapor deposition III. A study of stoichiometry and characterization of epitaxial LiTaO3 layer」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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