Atomically flat planarization of Ge(100), (110), and (111) surfaces in H2 annealing

Tomonori Nishimura, Shoichi Kabuyanagi, Wenfeng Zhang, Choong Hyun Lee, Takeaki Yajima, Kosuke Nagashio, Akira Toriumi

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術誌査読

15 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Atomically flat planarization of Ge(100), (110), and (111) surfaces in H2 annealing」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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