Application of Surface Activated Bonding to Determine the Dislocation Generation Process at Asymmetric Grain Boundaries in Silicon

Yutaka Ohno, Hikaru Saito, Jianbo Liang, Naoteru Shigekawa, Tatsuya Yokoi, Katsuyuki Matsunaga, Koji Inoue, Yasuyoshi Nagai, Satoshi Hata

研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿会議への寄与

フィンガープリント

「Application of Surface Activated Bonding to Determine the Dislocation Generation Process at Asymmetric Grain Boundaries in Silicon」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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