Anisotropic deposition of Cu in trenches by H-assisted plasma chemical vapor deposition
- Kosuke Takenaka
- , Makoto Kita
- , Toshio Kinoshita
- , Kazunori Koga
- , Masaharu Shiratani
- , Yukio Watanabe
研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
9
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被引用数
(Scopus)