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プロファイル
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Scopus著者プロファイル
宮村 佳児
学術研究員
教授
,
国立大学法人 九州大学
,
新エネルギー力学部門
ウェブサイト
https://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/html/100022589_ja.html
h-index
695
被引用数
15
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
1995 …
2024
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(66)
類似のプロファイル
(6)
研究成果
年別の研究成果
1995
1996
2012
2013
2014
2015
2016
2018
2020
2024
47
学術誌
12
会議への寄与
3
学会誌
3
会議記事
1
その他
1
総説
年別の研究成果
年別の研究成果
3 件
出版年、タイトル
(降順)
出版年、タイトル
(昇順)
タイトル
タイプ
フィルター
学会誌
検索結果
1997
Improvement of buried oxide integrity in ITOX SIMOX wafers
Ando, M.,
Miyamura, Y.
, Jablonski, J., Saito, M., Kitagawa, S. & Katayama, T.,
1997
,
p. 12-13
.
2 p.
研究成果
:
会議への寄与タイプ
›
学会誌
›
査読
Dose
100%
Oxidation Reaction
66%
Oxide
50%
Wafer
50%
Oxidation
33%
1
被引用数 (Scopus)
1996
Effect of high-temperature oxidation on the buried oxide integrity in low-dose SIMOX wafers
Saito, M., Jablonski, J.,
Miyamura, Y.
& Katayama, T.,
1996
,
p. 154-155
.
2 p.
研究成果
:
会議への寄与タイプ
›
学会誌
›
査読
Temperature
100%
Oxide
80%
Oxidation Reaction
60%
Surface
20%
Density
20%
1
被引用数 (Scopus)
Effect of oxidizing ambient on the generation of microdefects in low-dose SIMOX wafers
Jablonski, J., Saito, M.,
Miyamura, Y.
, Katayama, T. & Nakashima, S.,
1996
,
p. 30-31
.
2 p.
研究成果
:
会議への寄与タイプ
›
学会誌
›
査読
Low Drug Dose
100%
Stacking Fault
66%
Alpha Oxidation
33%
High Temperature
33%
Heat Treatment
33%
1
被引用数 (Scopus)