!!Research output per year
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フィンガープリント
Taizoh Sadohが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
- 1 類似のプロファイル
過去5年の共同研究と上位研究分野
国/地域レベルにおける最近の外部共同研究。点をクリックして詳細を開くか、または
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Preface: Special issue on control of semiconductor interfaces and group-IV semiconductor engineering technologies (ISCSI-X & ICSI/ISTDM 2025)
Sadoh, T., Makihara, K., Maeda, T., Kita, K. & Yamamoto, T., 7月 2026, In: Materials Science in Semiconductor Processing. 209, 110621.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 編集 › 査読
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Excimer Laser Doping for PN Junction Formation with Extremely Low Thermal Budget
Aoki, R., Katayama, K., Nakamura, D., Ikenoue, H. & Sadoh, T., 2023, 30th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2023 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., p. 159-160 2 p. (30th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2023 - Proceedings).研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿 › 会議への寄与
2 リンクは新しいタブで開きます 被引用数 (Scopus) -
Improved Carrier Mobility of Sn-Doped Ge Thin-Films (≤20 nm) by Post-Annealing for Thin-Film Transistor Application
Koga, T., Nagano, T., Moto, K., Yamamoto, K. & Sadoh, T., 2023, 30th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2023 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., p. 161-162 2 p. (30th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials, AM-FPD 2023 - Proceedings).研究成果: 書籍/レポート タイプへの寄稿 › 会議への寄与
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Improved carrier mobility of Sn-doped Ge thin films (≤20 nm) on insulator by interface-modulated solid-phase crystallization combined with surface passivation
Nagano, T., Hara, R., Moto, K., Yamamoto, K. & Sadoh, T., 10月 2023, In: Materials Science in Semiconductor Processing. 165, 107692.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
11 リンクは新しいタブで開きます 被引用数 (Scopus) -
Modulation of Schottky barrier at metal/Ge contacts by phosphoric acid coating and excimer laser annealing
Katayama, K., Ikenoue, H. & Sadoh, T., 6月 15 2023, In: Materials Science in Semiconductor Processing. 160, 107433.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
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