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Scopus著者プロファイル
西澤 伸一
教授
国立大学法人 九州大学
,
新エネルギー力学部門
ウェブサイト
https://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/html/100022568_ja.html
h-index
1947
被引用数
23
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
1988 …
2025
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(228)
類似のプロファイル
(1)
フィンガープリント
Shinichi Nishizawaが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
1
類似のプロファイル
Growth
Physics
100%
Crystals
Physics
95%
Simulation
Physics
49%
Silicon Carbide
Physics
46%
Insulated Gate Bipolar Transistor
Engineering
42%
Silicon
Physics
36%
Single Crystals
Physics
34%
Defects
Physics
34%
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研究成果
年別の研究成果
1988
2000
2002
2019
2020
2022
2023
2025
127
学術誌
75
会議への寄与
18
会議記事
3
学会誌
5
その他
2
総説
1
章
1
コメント/討論
1
編集
年別の研究成果
年別の研究成果
A screening test of GaN-HEMTs for improvement of breakdown voltage uniformity
Saito, W.
&
Nishizawa, S. I.
,
5月 2025
,
In:
Microelectronics Reliability.
168
, 115643.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Open Access
Screening Test
100%
Breakdown Voltage
100%
Overvoltage
40%
Experimental Result
20%
Current Measurement
20%
A Warpage Prediction Model for Trench Field-Plate Power MOSFET in 300mm-Diameter Process
Kato, H., Cai, B., Yuan, J.,
Nishizawa, S. I.
&
Saito, W.
,
2025
,
In:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing.
38
,
2
,
p. 263-269
7 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor
100%
Annealing
40%
Silicon
20%
Oxide Compound
20%
Polysilicon
20%
Improvement of sensitivity for power cycle degradation by a new device structure
Okame, K., Yamakita, Y.,
Nishizawa, S. I.
&
Saito, W.
,
5月 2025
,
In:
Microelectronics Reliability.
168
, 115713.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Open Access
Mechanical Stress
100%
Density
50%
Schottky Barrier
50%
Power Device
50%
Interface State
25%
Modeling and Designing a GaN-Growth Reactor With Halogen-Free Vapor Phase Epitaxy: NH
3
Decomposition at the Catalytic Surface of Components to Replicate Parasitic Polycrystal Formation
Shimazu, H.,
Nishizawa, S. I.
, Nitta, S., Amano, H. & Nakamura, D.,
2025
,
In:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing.
38
,
2
,
p. 311-323
13 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Vapor Phase Epitaxy
100%
Relationship between temperature gradient and growth rate during CZ silicon crystal growth
Nishizawa, S. I.
,
1月 1 2025
,
In:
Journal of Crystal Growth.
649
, 127942.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Open Access
Silicon
100%
Crystal Growth
100%
Thermal Gradient
100%
Surface (Surface Science)
50%
Temperature Distribution
42%