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プロファイル
研究部門
プロジェクト
研究成果
データセット
活動
プレス/メディア
受賞
Scopus著者プロファイル
白谷 正治
教授
国立大学法人 九州大学
,
電子デバイス工学
ウェブサイト
https://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/html/100021462_ja.html
h-index
7996
被引用数
44
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
1986 …
2026
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(444)
類似のプロファイル
(6)
フィンガープリント
Masaharu Shirataniが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics
Growth
100%
Particle
84%
Deposition
50%
ZnO
45%
Electrodes
39%
Substrates
38%
Silane
33%
Region
31%
Ion
30%
Nitrogen
29%
Plasma Jet
27%
Oxygen
26%
Laser
26%
Ratios
25%
Atoms
25%
Increasing
23%
Dye-Sensitized Solar Cell
23%
Dust
22%
Variations
22%
Boundaries
17%
Utilization
17%
Liquids
16%
Model
16%
Gas Flow
16%
Quantum Dot
16%
Value
16%
Electric Potential
16%
Temperature
16%
Plant
16%
Etching
15%
Light
15%
Light Scattering
15%
Gases
15%
Hydrogen
15%
Performance
14%
Crystallization
14%
Atmospheric Pressure
14%
Plasma Sheaths
14%
Probability Theory
14%
Electron Density
14%
Frequencies
14%
Independent Variables
13%
Modulation
13%
Dielectric Barrier Discharge
13%
Photons
11%
Thin Films
10%
Mixtures
10%
Fabrication
10%
Radio Frequency Discharge
10%
Flow Velocity
10%
Chemistry
Liquid Film
65%
Procedure
37%
Surface
36%
Density
29%
Quantum Dot
28%
Plasma Chemical Vapor Deposition
26%
Rate
24%
Particle Size
23%
Ion
20%
Counter Electrode
17%
Irradiation
16%
Time
16%
Atom
15%
Energy
14%
Mixture
13%
Nanoparticle
13%
Dust Particle
13%
Plasma
13%
Roughness
12%
Reaction Temperature
12%
Titanium Dioxide
12%
Polymer
12%
Dioxygen
11%
Pressure
11%
Molecular Cluster
11%
Plasma Process
11%
Chemical Bonding
11%
Gas
10%
Recombination
10%
Chemical Bond
10%
Electron Particle
9%
Crystalline Material
9%
Structure
9%
Reactive Oxygen Species
9%
Device
9%
Nitrogen
9%
Degradation
8%
Inorganic Ion
8%
Hydrogen
8%
X-Ray Photoelectron Spectroscopy
8%
Reactor
8%
Electron Density
8%
Dye-Sensitized Solar Cells
8%
Amount
7%
Chemical Reaction
7%
Solar Cell
7%
Voltage
7%
Polyethylene Terephthalate
7%
Photon
7%
Etching
7%
Engineering
Chemical Vapor Deposition
38%
Radiation Effect
21%
Sensitized Solar Cell
20%
Deposition Rate
17%
Substrates
15%
Si Nanoparticles
12%
Quantum Dot
11%
Stability
11%
Silicon Nanoparticle
10%
Performance
10%
Hydrogenated Amorphous Silicon
10%
Enhancement
10%
Deposited Film
9%
Vapor Deposition Method
9%
Recombination
9%
Efficiency
9%
Induced Degradation
8%
Density
8%
Surfaces
8%
Characteristics
8%
Thin Films
8%
Fabrication
8%
Reactor
8%
Filters
7%
High Deposition Rate
7%
Titanium Dioxide
7%
Crystalline Silicon
6%
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
6%
Conversion Efficiency
6%
High Quality
6%
Photovoltaics
6%
Nanomaterial
6%
Nonthermal Plasma
6%
Fill Factor
5%
Defect Density
5%
Bond Formation
5%
Gas Velocity
5%
Silicon Dioxide
5%
Applications
5%
Open Circuit Voltage
5%
Energy Gap
5%