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Scopus著者プロファイル
鎌滝 晋礼
准教授
国立大学法人 九州大学
,
電子デバイス工学
ウェブサイト
https://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/html/100021480_ja.html
h-index
845
被引用数
16
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
2006
2024
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(131)
類似のプロファイル
(7)
フィンガープリント
Kunihiro Kamatakiが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Physics
Variations
38%
Growth
33%
ZnO
28%
Substrates
25%
Frequencies
20%
Dust
19%
Electron Cyclotron Resonance
17%
Quantum Dot
16%
Particle
15%
Stability
15%
Deposition
14%
Dye-Sensitized Solar Cell
14%
Drift Wave
14%
Ion
14%
Ratios
13%
Plane
13%
Fabrication
12%
Spectra
11%
Amplitudes
11%
Amplitude Modulation
11%
Mirrors
10%
Increasing
10%
Plasma Turbulence
10%
Probability Theory
9%
Turbulence
9%
Zonal Flow
9%
Nitrogen
9%
Atolls
8%
Thin Films
8%
Pressure
8%
Region
8%
Molecules
8%
Silicon
8%
Gradients
7%
Plasma Jet
7%
Gas Pressure
7%
Cylindrical Plasmas
7%
Correlation
7%
Temperature
7%
Electric Potential
7%
Model
7%
Broadband
6%
Oscillation
6%
Value
6%
Magnetron Sputtering
5%
Electrodes
5%
Magnetic Fields
5%
Gas Mixture
5%
Volume
5%
Quality
5%
Material Science
Liquid Films
100%
Film
30%
ZnO
26%
Surface
20%
Crystalline Material
19%
Nanoparticle
16%
Amorphous Material
16%
Temperature
14%
Carbon Dioxide
14%
Buffer Layer
13%
Chemical Vapor Deposition
13%
Silicon
11%
Amorphous Silicon
11%
Nucleation
10%
Gas
9%
Silicon Nitride
9%
Anisotropy
9%
Ionic Liquid
9%
Magnetron Sputtering
8%
Thin Films
8%
Material
7%
Anode
7%
Nitriding
7%
Volume Fraction
7%
Cell
7%
Crystallization
6%
Gas Mixture
6%
Dye-Sensitized Solar Cells
6%
X-Ray Diffraction
6%
Cathode
6%
Garnet
6%
Indium Tin Oxide
6%
Nanocrystalline Material
5%
Titanium Dioxide
5%
Carbon Films
5%
Density
5%
Annealing
5%
Sputter Deposition
5%
Sapphire
5%
Photovoltaics
5%
Amorphization
5%
Engineering
Chemical Vapor Deposition
35%
Sensitized Solar Cell
23%
Silicon Nanoparticle
18%
Si Nanoparticles
14%
Substrates
12%
Quantum Dot
11%
Fabrication
10%
Characteristics
10%
Filters
10%
Deposition Rate
10%
Titanium Dioxide
9%
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
9%
Recombination
8%
Energy Engineering
8%
Gas Pressure
7%
Density
7%
Performance
7%
Induced Degradation
7%
Fluctuations
7%
Vapor Deposition Method
7%
Hydrogenated Amorphous Silicon
6%
Quartz Crystal Microbalance
6%
Carbon Nanoparticle
6%
Azimuthal
6%
Deposition Condition
6%
Short Circuit
6%
Fill Factor
6%
Nanomaterial
5%
Reduction
5%
Efficiency
5%
Properties
5%
Surfaces
5%
High Deposition Rate
5%
Substrate Temperature
5%