年別の研究成果
年別の研究成果
-
-
Effect of plasma treatment and dielectric diffusion barrier on electromigration performance of copper damascene interconnects
Takamasa Usui, Hideshi Miyajima, Hideaki Masuda, Kiyotaka Tabuchi, Watanabe, K., Toshiaki Hasegawa & Hideki Shibata, 3月 2006, In: Japanese Journal of Applied Physics. 45, p. 1570-1574研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
26 リンクは新しいタブで開きます 被引用数 (Scopus) -
Identification of elctromigration dominant diffusion path for Cu damascene interconnects and effect of plasma treatment and barrier dielectrics on electromigration performance
T. Usui, T. Oki, H. Miyajima, K. Tabuchi, Watanabe, K., T. Hasegawa & H. Shibata, 2004, In: 2004 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings. 42, p. 246-250研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
1 リンクは新しいタブで開きます 被引用数 (Scopus) -
強誘電体キャパシタの製造方法
Watanabe, K. (考案者), Miho Sadamoto, Akio Machida & Masahiro Tanaka, 4月 2003, Patent No. 3419974, 11月 14 1995研究成果: 特許
活動
- 1 招待講演