年別の研究成果
年別の研究成果
フィンガープリント
Keisuke Yamamotoが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
- 1 類似のプロファイル
過去5年の共同研究と上位研究分野
国/地域レベルにおける最近の外部共同研究。点をクリックして詳細を開くか、または
-
Al2O3 growth on Ge by low-temperature (∼90 °C) atomic layer deposition and its application for MOS devices
Aso, T., Kuwazuru, H., Wang, D. & Yamamoto, K., 5月 2025, In: Materials Science in Semiconductor Processing. 190, 109372.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
Open Access -
High-Mobility p-Channel Thin-Film Transistors Based on Polycrystalline GeSn
Moto, K., Maeda, S., Igura, K., Huang, L., Morimoto, A., Yamamoto, K. & Toko, K., 2025, (印刷中) In: Advanced Electronic Materials.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
Open Access -
Development of Ge Isotropic Wet Etching Solution and its Application to High Quality Ge-on-Insulator Fabrication through the Etchback method
Shimizu, N., Wang, D., Nakashima, H. & Yamamoto, K., 2024, In: ECS Journal of Solid State Science and Technology. 13, 044001, 044001.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
Open Access -
Ge-on-insulator fabrication based on Ge-on-nothing technology
Yamamoto, K., Wang, D., Loo, R., Porret, C., Cho, J., Dessein, K. & Depauw, V., 4月 1 2024, In: Japanese journal of applied physics. 63, 4, 04SP32.研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
Open Access1 被引用数 (Scopus) -
Ge-on-Insulator Fabrication based on Ge-on-Nothing Technology
Yamamoto, K., Wang, D., Loo, R., Porret, C., Cho, J., Dessein, K. & Depauw, V., 4月 2 2024, In: Japanese Journal of Applied Physics. 63, 04SP32, p. 04SP32研究成果: ジャーナルへの寄稿 › 学術誌 › 査読
Open Access
活動
- 4 招待講演
-
Thermally Oxidized Yttrium Oxide on Germanium for n-Mos Capacitor and Field-Effect Transistor
Yamamoto, K. (招待講演者), Wen, W. C. (講演者), Wang, D. (講演者) & Nakashima, H. (講演者)
10月 9 2023活動: 講演またはプレゼンテーション › 招待講演
-
Novel group IV semiconductor materials and devices for beyond Si technology
Yamamoto, K. (招待講演者), Matsuo, T. (講演者), Wang, D. (講演者), Moto, K. (講演者), Toko, K. (講演者) & Nakashima, H. (講演者)
8月 3 2022活動: 講演またはプレゼンテーション › 招待講演
-
Schottky Barrier Height Control at Metal/Ge Interface by Insertion of Nitrogen Contained Amorphous Layer
Yamamoto, K. (招待講演者), Wang, D. (講演者) & Nakashima, H. (講演者)
5月 30 2021 → 6月 3 2021活動: 講演またはプレゼンテーション › 招待講演
-
Fabrication of Ge-on-Insulator By Epitaxial Growth and Ion-Implanted Exfoliation for Electronics and Opt-Electronics Applications
Yamamoto, K. (招待講演者), Wang, D. (講演者) & Nakashima, H. (講演者)
10月 10 2021 → 10月 14 2021活動: 講演またはプレゼンテーション › 招待講演