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Scopus著者プロファイル
古川 勝彦
教授
国立大学法人 九州大学
,
産学官連携推進グループ
ウェブサイト
https://hyoka.ofc.kyushu-u.ac.jp/html/100025201_ja.html
h-index
307
被引用数
9
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
1993
2004
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(28)
類似のプロファイル
(1)
フィンガープリント
Katsuhiko Furukawaが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
1
類似のプロファイル
Liquid Films
Material Science
100%
Liquid Film
Chemistry
75%
Electron Cyclotron Resonance
Physics
75%
Sputtering Type
Chemistry
49%
Crystalline Material
Chemistry
49%
Ambient Reaction Temperature
Chemistry
46%
Substrates
Physics
44%
Deposition
Physics
41%
研究成果
年別の研究成果
1993
1997
1999
2000
2004
24
学術誌
4
会議記事
年別の研究成果
年別の研究成果
Activation of electrode surface on silicon solar cell using dielectric barrier discharge
Sakoda, T., Matsukuma, K., Araki, I., Sung, Y. M., Terakawa, T. &
Furukawa, K.
,
6月 2004
,
In:
Japanese Journal of Applied Physics.
43
,
6 A
,
p. 3275-3280
6 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Silicon Solar Cell
100%
Dielectric Material
100%
Electrode Surface
75%
Fill Factor
50%
Surface Treatment
50%
1
被引用数 (Scopus)
Electrical characteristics of p-n junction diodes fabricated by Si epitaxy at low temperature using sputtering-type electron cyclotron resonance plasma
Wang, J., Nakashima, H., Gao, J., Iwanaga, K.,
Furukawa, K.
, Muraoka, K. & Sung, Y. M.,
3月 2001
,
In:
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures.
19
,
2
,
p. 333-336
4 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Diode
100%
Plasma System
50%
Lower Temperature
50%
Vacuum
25%
Electron Cyclotron Resonance
25%
10
被引用数 (Scopus)
Characterization of H-Y zeolite modified by a radio-frequency CF
4
plasma
Furukawa, K.
, Tian, S. R., Yamauchi, H., Yamazaki, S., Ijiri, H., Ariga, K. & Muraoka, K.,
2月 18 2000
,
In:
Chemical Physics Letters.
318
,
1-3
,
p. 22-26
5 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Frequencies
100%
Infrared Absorption
100%
Adsorption
100%
X-Ray Diffraction
100%
X Ray
50%
14
被引用数 (Scopus)
ECR plasma oxidation: Dependence on energy of argon ion
Matsuo, S., Yamamoto, M.,
Sadoh, T.
, Tsurushima, T., Gao, D. W.,
Furukawa, K.
& Nakashima, H.,
2000
,
In:
Materials Research Society Symposium - Proceedings.
585
,
p. 171-176
6 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
会議記事
›
査読
Oxidation
100%
Oxide Film
100%
Energy
100%
Oxidation Reaction
100%
Substrates
75%
1
被引用数 (Scopus)
Effects of ion irradiation on silicon oxidation in electron cyclotron resonance argon and oxygen mixed plasma
Matsuo, S., Yamamoto, M.,
Sadoh, T.
, Tsurushima, T., Gao, D. W.,
Furukawa, K.
& Nakashima, H.,
8月 2000
,
In:
Journal of Applied Physics.
88
,
3
,
p. 1664-1669
6 p.
研究成果
:
ジャーナルへの寄稿
›
学術誌
›
査読
Oxidation
100%
Oxidation Reaction
100%
Growth Rate
66%
Increasing
50%
Argon Ion
50%
15
被引用数 (Scopus)